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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆营造厂是在华东中北部中北部,重点生產89英寸半导体技术晶圆,平均废水处理尾气排放出标准规范量约800吨。鉴于生產历程中安全使用大量氢氧化钠确定晶圆蚀刻,造成废水处理中氟化物酸度可以达到200-300mg/L,远超部委尾气排放出标准规范标准规范(10mg/L如下)。 废气含量及渠道 废气包括根据六个的环节: 晶圆蚀刻制作工序 :含高氧浓度氟化物(HF)、氰化钠及少量出血本属 耐腐蚀机器拋光(CMP)生活污水 :含nm级硅顆粒、有机物络合剂 装备进行维护清洁电镀废水 :含异丙醇、挥发酚等有机会物 解决工艺设计流程 用到"催化奠定+水泥混凝土奠定+深层次过滤装置"三级考试操作系统化: 特级治疗 :加药氯化钙和氢腐蚀钙,构成氟化钙沉垫,氟化物取除率达85% 两级加工处理 :使用PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),消除橡胶胶体部分态环保问题物 三級工作 :进行多材质进行全自动过滤器和抗逆性炭降解,满水后氟化物密度比较稳定在8mg/L下述 重点产品比如:pH自功缓解系統、斜管沉淀自己池、板框过滤机(厌氧颗粒污泥脱水烘干)。 决定功效 項目电脑运行三年期监测方案统计数据统计表明: 氟化物一般溶液浓度:7.2mg/L(不低于国家的标准化) COD避开率:92% 污泥处理水分含量率:≤65% 年收旧氟化钙副產品约150吨,建立产品化回收利用

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